Le società che producono apparecchiature per l’industria dei semiconduttori hanno vissuto ieri una seduta estremamente volatile, passando nel giro di poche ore da un clima di forte ottimismo a una pesante ondata di vendite. A cambiare radicalmente il sentiment degli investitori è stata un’indiscrezione proveniente dalla Cina che, se confermata nel lungo periodo, potrebbe in effetti modificare gli equilibri di uno dei segmenti più strategici dell’intera filiera globale dei chip.

Un report di The Information ha infatti riferito che una società cinese sostenuta dallo Stato, con sede a Shanghai e nata anche grazie al contributo di team provenienti da startup specializzate nel settore della litografia, avrebbe avviato la produzione di macchine DUV immersion (Deep Ultraviolet) sviluppate interamente in Cina, con l’obiettivo di realizzare cinque sistemi entro la fine dell’anno e aumentare la produzione a venti unità nel 2027. I principali destinatari sarebbero colossi nazionali come SMIC, CXMT e Hua Hong, aziende che rappresentano il cuore della strategia cinese per costruire una filiera dei semiconduttori sempre meno dipendente dalla tecnologia occidentale.

La notizia assume un’importanza ancora maggiore perché arriva mentre negli Stati Uniti prosegue l’iter del MATCH Act, una proposta legislativa che punta a restringere ulteriormente l’accesso della Cina alle apparecchiature DUV occidentali e ai relativi servizi di assistenza. Se Pechino riuscisse davvero a sviluppare internamente queste tecnologie, parte dell’efficacia delle future restrizioni americane rischierebbe inevitabilmente di diminuire.

La reazione dei mercati è stata immediata. Gli investitori hanno interpretato il report come il possibile segnale che uno dei maggiori vantaggi competitivi dell’industria occidentale stia iniziando a essere eroso. Se la Cina riuscisse infatti a superare uno degli ostacoli tecnologici più complessi, quello della litografia avanzata, anche altri segmenti della produzione di semiconduttori, come deposizione, incisione e metrologia, potrebbero in prospettiva diventare più vulnerabili alla concorrenza locale.

Il risultato è stato un violento sell-off che ha colpito l’intero comparto. Nelle fasi più tese della seduta, ASML, Applied Materials, Lam Research e KLA hanno registrato ribassi vicini al 7%, cancellando in poche ore miliardi di euro di capitalizzazione. Successivamente, il mercato ha recuperato parte delle perdite, ma il nervosismo è rimasto elevato per tutta la giornata. A riportare maggiore equilibrio sono stati gli analisti di Wall Street, che hanno invitato a non confondere un possibile successo ingegneristico con una minaccia commerciale immediata.

cina asml

L’analista Didier Scemama ritiene infatti che il mercato abbia reagito in maniera eccessiva, ricordando come il principale produttore cinese di sistemi litografici non abbia ancora dimostrato di poter sostenere una produzione ad alti volumi sui nodi produttivi più avanzati. Il vero vantaggio competitivo di ASML, sottolinea l’analista, non consiste soltanto nella capacità di costruire una macchina funzionante, ma nel garantire precisione, affidabilità e produttività elevate. Gli scanner DUV più evoluti dell’azienda olandese sono infatti progettati per elaborare centinaia di wafer ogni ora mantenendo tolleranze estremamente ridotte. Anche una lieve diminuzione delle prestazioni può compromettere la resa produttiva dei chip, aumentando sensibilmente i costi di fabbricazione.

Inoltre, secondo le stime di BofA Securities, anche nell’ipotesi in cui la Cina riuscisse realmente a produrre venti macchine DUV nel prossimo anno, l’impatto sul fatturato di ASML sarebbe limitato a circa il 2-3% delle vendite complessive del gruppo. Una posizione simile arriva anche da JPMorgan, il cui analista Sandeep Deshpande evidenzia come esista una differenza sostanziale tra realizzare alcuni prototipi e mettere a disposizione dell’industria sistemi in grado di lavorare senza interruzioni migliaia di wafer con elevata precisione e affidabilità. Sono questi parametri, più ancora delle caratteristiche tecniche dichiarate, a determinare il reale valore commerciale di una macchina litografica.

Anche BNP Paribas invita a contestualizzare la notizia. Secondo l’istituto finanziario francese, la crescente domanda di capacità produttiva cinese, soprattutto nel comparto delle memorie DRAM, richiederà nei prossimi anni centinaia di sistemi DUV. Considerando che ASML non è materialmente in grado di soddisfare contemporaneamente la domanda mondiale e quella proveniente dalla Cina, lo sviluppo di una produzione nazionale potrebbe rappresentare una necessità industriale più che una sostituzione completa del produttore europeo.

L’episodio conferma comunque come la competizione tecnologica tra Stati Uniti e Cina stia entrando in una nuova fase. Per anni la litografia è stata considerata il principale punto debole dell’industria cinese dei semiconduttori grazie anche al vantaggio accumulato da ASML, unico produttore mondiale delle sofisticate macchine EUV e leader indiscusso anche nel segmento DUV più avanzato. Se Pechino riuscirà davvero a colmare questo divario, serviranno probabilmente ancora diversi anni di sviluppo industriale, ma il semplice fatto che questa possibilità venga oggi presa in considerazione dagli investitori dimostra quanto rapidamente stia evolvendo il panorama globale della produzione di chip.