In un laboratorio ad alta sicurezza alla periferia di Shenzhen, lontano da occhi indiscreti e da qualsiasi comunicazione ufficiale, la Cina ha compiuto un passo che Washington ha cercato per anni di impedire. Un team di scienziati e ingegneri ha costruito un prototipo funzionante di macchina per la litografia a ultravioletti estremi (EUV), la tecnologia più avanzata e strategicamente sensibile dell’intera filiera dei semiconduttori. Secondo quanto emerso da un’inchiesta Reuters, il sistema è stato completato all’inizio del 2025 ed è attualmente in fase di test. Occupa quasi l’intero spazio di una fabbrica e rappresenta un segnale che va ben oltre il piano puramente industriale.

La litografia EUV è infatti il cuore della competizione tecnologica globale, dal momento che consente di incidere circuiti infinitesimali su wafer di silicio con dimensioni migliaia di volte inferiori allo spessore di un capello umano. Più piccoli sono i transistor, maggiori sono la potenza di calcolo, l’efficienza energetica e il valore strategico dei chip risultanti. Finora questa capacità è stata monopolio quasi assoluto dell’Occidente grazie al gruppo olandese ASML, che da solo produce le macchine EUV utilizzate da colossi come TSMC, Intel e Samsung per realizzare i chip più avanzati di Nvidia e AMD.

Il prototipo cinese, pur non avendo ancora prodotto chip funzionanti, è già in grado di generare luce a ultravioletti estremi, un traguardo tutt’altro che banale. È un risultato che contraddice apertamente le previsioni pubbliche dei vertici ASML. Nell’aprile scorso, l’amministratore delegato Christophe Fouquet aveva infatti dichiarato che alla Cina sarebbero serviti “molti, molti anni” per avvicinarsi a questo livello tecnologico. L’esistenza stessa di questo sistema suggerisce invece che Pechino possa essere molto più vicina all’autonomia nei semiconduttori di quanto gli analisti occidentali avessero stimato.

Le difficoltà restano però enormi. Replicare la precisione estrema dei sistemi ottici occidentali è uno degli ostacoli principali. Le macchine EUV più avanzate dipendono da componenti sofisticatissimi come gli specchi prodotti dalla tedesca Carl Zeiss, che richiedono mesi di lavorazione e tolleranze atomiche. Il prototipo di Shenzhen è descritto come grezzo rispetto agli standard ASML, sebbene sia sufficientemente operativo da consentire sperimentazione e iterazioni successive. Secondo fonti vicine al progetto, l’obiettivo ufficiale del governo cinese è arrivare a produrre chip funzionanti entro il 2028, anche se una data più realistica viene indicata attorno al 2030, comunque in netto anticipo rispetto alle stime precedenti.

euv chip

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Questo sviluppo è il risultato di un programma governativo avviato sei anni fa per raggiungere la piena autosufficienza nei semiconduttori, una delle priorità strategiche dell’era Xi Jinping. Il progetto EUV di Shenzhen è stato condotto nel massimo riserbo, classificato come iniziativa di sicurezza nazionale e coordinato nell’ambito della strategia tecnologica guidata dalla Commissione Centrale per la Scienza e la Tecnologia del Partito Comunista. A livello operativo, Huawei svolge un ruolo di regia, orchestrando una rete di aziende e istituti di ricerca statali che coinvolge migliaia di ingegneri. Non a caso, alcune fonti lo descrivono come una sorta di “Manhattan Project” cinese, un paragone che rende bene la portata e l’urgenza dell’iniziativa.

Un elemento centrale di questo sforzo è stato il reclutamento mirato di ex ingegneri ASML. Molti di loro, di origine cinese e ormai in pensione o prossimi al ritiro, possedevano competenze difficilmente replicabili e, secondo le ricostruzioni di Reuters, alcuni sono stati accolti nel complesso di Shenzhen con identità fittizie, costretti a utilizzare nomi falsi persino tra colleghi per mantenere il massimo livello di segretezza. L’accesso al sito era rigidamente controllato e nessuno all’esterno doveva sapere cosa fosse in costruzione.

Le leggi europee sulla privacy e le difficoltà di applicare accordi di non divulgazione oltreconfine hanno reso complesso per ASML monitorare e contrastare queste dinamiche. L’azienda ha già ottenuto in passato una sentenza milionaria contro un ex ingegnere accusato di furto di segreti industriali, ma il caso ha mostrato tutti i limiti dell’azione legale quando entra in gioco il sostegno diretto di uno Stato. I servizi di intelligence olandesi hanno più volte segnalato le attività di reclutamento aggressive condotte dalla Cina nei confronti di scienziati e tecnici occidentali, considerandole parte di una strategia sistemica di acquisizione di know-how.

Dal punto di vista tecnico, la macchina EUV cinese ha dimensioni ancora più imponenti di quelle ASML, nel tentativo di compensare limiti di efficienza con maggiore potenza. I laser colpiscono gocce di stagno fuso decine di migliaia di volte al secondo generando plasma a temperature estreme, mentre i ricercatori cercano soluzioni alternative agli specchi Zeiss per focalizzare la luce. In questo contesto, istituti come il Changchun Institute of Optics hanno contribuito a integrare con successo la luce EUV nel sistema ottico, rendendo il prototipo operativo.

Per reperire componenti critici, la Cina ha fatto ampio ricorso al mercato dell’usato e a reti di intermediari. Vecchie macchine ASML, Nikon e Canon, vendute tramite aste internazionali o piattaforme cinesi, sono state smontate e analizzate pezzo per pezzo. Un team di giovani laureati lavora esclusivamente sul reverse engineering e la ricostruzione corretta di un singolo componente viene premiata con bonus economici, in un sistema che unisce pressione costante e incentivi mirati.